ポスト

ナノインプリントリソグラフィ(NIL)のオーバーレイ性能の向上にMEMSが使われる。ウェーハ上のパターンとモールドとのずれを補正するために、樹脂が感光しない波長の光をモールドに照射し、熱膨張によってモールドを歪ませる。DMDで光照射パターンを調整すれば、高い空間周波数の歪も補正できる。 pic.twitter.com/sKFy2xqheQ

メニューを開く
リソグラフィエンジニアの戯言@ProbablyClass1

キヤノンさんが発表したナノインプリント量産機。少し見方を変えて、というか運用上どうなんなるんやろか、と感じた点を3つほど挙げると 1. アライメント方式 2. ウェーハ歪み補正機能 3. レジスト塗布 あたりなのですが、このうち1についてつらつらと。→ global.canon/ja/news/2023/2…

田中 秀治 / Shuji Tanaka@mems6934

人気ポスト

もっと見る
Yahoo!リアルタイム検索アプリ