ポスト

Huaweiは、既にEUVリソグラフィに関連する特許を出願していることが判明。米国を中心とする中半導体製造装置輸出規制を背景に、中国国内で利用可能な先端プロセス向け露光装置の開発を急ピッチで進めている。深圳に3つの半導体ファブ(DRAM、イメージセンサ、ロジック等)を建設 news.mynavi.jp/techplus/artic…

メニューを開く

めにおぷ@meniopu2021

人気ポスト

もっと見る
Yahoo!リアルタイム検索アプリ