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衝撃的 米メディアPhoneArenaは中国SMICが 今年ファーウェイ向けの5ナノメートルチップはASML極紫外線(EUV)露光機の使用を必要としないと報じた 美媒:中芯為華為打造5奈米晶片 無需EUV令人震驚 ec.ltn.com.tw/article/breaki…

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